產品特點
表壓、真空和復合壓力型
通用型和沖洗型外殼
薄膜較厚,結構上使耐壓性能提高
採用CVD 傳感元件提供高穩定性
典型應用
工程機械車輛.工業生產設備.水處理系統.泵和壓縮機.工業電機.加固工系統
產品介紹
的Psibar傳感器製造技術使Gems 1200壓力傳感器具有出眾的穩定性和長期的可靠性,Psibar 的製造使用了等離子化學沉澱(CVD)技術,一個等離子氣流引導化學蒸汽將一層薄薄的硅和氧化硅沉積在不鏽鋼基底上,形成一個非常靈敏精確的多晶硅應變片。
Gems 1200/1600壓力傳感器具有穩定性和堅固性,因為它採用CVD 和ASIC(特定用途集成電路)設計並結合採用較厚的薄膜。這較厚的薄膜使得Gems 1200/1600壓力傳感器可以承受因泵攪動和電磁閥等引起的 壓力峰 值。Gems 1600 系列為工業應用提供全焊接不鏽鋼后端,擴展了封裝選擇。Gems 1200/1600壓力傳感器的模塊設計使輔配件和電纜的特別定購成為可能適合OEM 應用。採用ASIC 和CVD 技術使得 Gems 公司幾乎可以提供任何壓力範圍下任何輸出量的產品。
產品性能參數
壓力量程 |
真空至400 bar (6000psi)( 僅對表壓數據) |
耐壓 |
4 x 滿量程 (FS) (<1%FS 零偏移) |
疲勞壽命 |
設計超過 100,000,000 次滿量程循環 |
精度 |
0.5% FS,標準值 |
補償溫度 |
-20℃至80℃ (-5° F 至180° F) |
工作溫度 |
-40℃至125℃ (-40° F 至260° F),對於電氣連接代碼 A, B, C, 1 而言 |
零點允差 |
1% 量程 |
量程允差 |
1% 量程 |
振動 |
正弦曲線,峰值35g,5 Hz 至2000Hz |
加速度 |
在任意方向施加100g 的穩定加速度,1bar (15 psi) 量範圍時為0.032 % FS/g, 400bar (6000 psi) 範圍時,按對數遞減至0.0007% FS/g。 |
衝擊 |
經受住按國際電工委員會IEC 68- 2- 32 程序1 的自由落體試驗 |
認証 |
CE |